Ova maska je formulirana sa hijaluronskom kiselinom, pantenolom i ekstraktom Centella Asiatica, pružajući dubinsku hidrataciju, umirujući iritacije i jačajući prirodnu barijeru kože. Njena nježna formula pogodna je za osjetljivu kožu, pomažući u obnavljanju udobnosti kože i sprečavanju daljnjih iritacija.

Maska takođe pruža efekt “high lifting-a”, pomažući u učvršćivanju kože i smanjenju vidljivosti finih linija i opuštenosti. Posvjetljuje umornu i beživotnu kožu, ujednačava ton i daje revitalizovani, blistavi izgled.